整机采用双工位（或单工位）层叠、积木式组合结构，每个工位可独立运行互不干扰。能实现包括旋转冲洗、氮气烘干、电阻率监控、防静电控制、腔体干燥、故障显示报警、系统洁净处理在内的全自动工艺处理过程。
技术特点：
1. 工作过程中，清洗工作腔与外界密封隔离 2工作腔及片架载体采用耐腐蚀不锈钢电化学抛光
3.转轴采用氮气密封隔离 4.旋转机构的精密平衡 5采用无刷伺服电机驱动
6精密减震及阻尼 7.管道、阀门、接头采用聚四氟材料和高纯管件 8.去离子水采用电阻率监控
9.工作中采用防静电控制 10.设备在超净间内进行装调、减少和控制设备本身的污染
本系列机型可用于半导体硅圆片、砷化镓材料、掩模版、太阳能电池基片、蓝宝石、铌酸锂、光学镜片、磁盘、光盘、医用玻璃基片等类似相关材料的高洁度冲洗甩干。
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