快速热处理退火炉简称RTP（Rapid Thermal ProcessingFurnace），由我公司借鉴了国际先进制造工艺，在管式炉的基础上自主研发而成，不但拥有极快的升温速率500℃/S，而且降温速率也有了质的飞跃100℃/S。我们的工程师们巧妙地利用了冷壁工艺，以至于达到如此快的降温速度。真正的极速升温和极速降温！
腔体采用了独有双层石英管结构，外层管进气，内层管出气，使得反应气氛与加工样品充分而均匀地接触。
加热灯管之所以能够让硅片快速升温，是因为光源波长在0.3-4微米之间，石英管壁无法有效吸收这一波段的辐射，而晶片则正好相反。因此，晶片可以吸收辐射能量快速加热，而此时石英管壁仍维持低温，即所谓冷壁工艺。
Ø 快速热退火 (RTA); 离子注入后退火
Ø 石墨烯等气象沉积，碳纳米管等外延生长
Ø 快速热氧化 (,RTO); 热氮化 (RTN);
Ø 硅化 (Silicidation);
Ø 扩散 (Diffusion);
Ø 离子注入后退火 (Implant Annealing);
Ø 电极合金化 (Contact Alloying);
Ø 晶向化和坚化 (Crystallization and Densification);
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