抗氢氟酸胶带是以聚酯薄膜为基材，涂布特殊丙烯酸胶制作而成的光学保护膜，是专为晶圆蚀刻制程及二次强化而设计制造的耐酸保护膜。在PET或PO基材上涂布低粘着之压克力黏胶而成,保护晶圆在蚀刻过程中耐氢氟酸及盐酸等，不被腐蚀、不起泡脱落,也不会把线路涂料拔起。符合RoHS及无卤要求.应用于集成电路( I C)和超大规模集成电路 (VLSI)芯片的清洗和腐蚀,是微电子行业制作过程中的关键性基础化工材料之一,还可用作分析试剂和制备高纯度的含氟化学品。目前,在国内基本上是作为蚀刻剂和清洗剂用于微电子行业,其他方面用量较少。 

• QTMT755035抗氢氟酸膜

• 产品简介

  
  

  品名	QTMT755035(抗氢氟酸膜)
  产品结构
  面材		底纸
  材料名称	PET膜	材料名称	PET离型膜
  厚度  mm	0.075+0.005	厚度  mm	0.05+0.002
  基重 g/m	105±10	基重 g/m	65±3
  颜色	雾面	颜色	透明
  粘胶
  胶系	压克力	粘着力g/25mm	70±10
  上胶厚度mm	0.035+0.002	剥离力g/25mm	10+3
  上胶量g/m	35±2	适用温度	-20-100℃
  保存环境	通风．干燥．避免日光30℃×60%RH↓
  备注:以上各种技术资料是本公司采用公认可靠的检验方法,经多次检验所得出的平均数据.但为确保正确选择与使用本公司的产品,对于您想要选择的型号,请对其使用目的和工作环境与试用或通知本公司，以便为您提供更进一步说明与服务！
  耐酸测试条件：氢氟酸浓度40%，时间1小时