抗氢氟酸胶带是以聚酯薄膜为基材，涂布特殊丙烯酸胶制作而成的光学保护膜，是专为晶圆蚀刻制程及二次强化而设计制造的耐酸保护膜。在PET或PO基材上涂布低粘着之压克力黏胶而成,保护晶圆在蚀刻过程中耐氢氟酸及盐酸等，不被腐蚀、不起泡脱落,也不会把线路涂料拔起。符合RoHS及无卤要求.应用于集成电路( I C)和超大规模集成电路 (VLSI)芯片的清洗和腐蚀,是微电子行业制作过程中的关键性基础化工材料之一,还可用作分析试剂和制备高纯度的含氟化学品。目前,在国内基本上是作为蚀刻剂和清洗剂用于微电子行业 ,其他方面用量较少。
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