Aluminum Oxide（Al2O3），即氧化铝靶材，作为一种高性能的高纯溅射靶材材料，在薄膜制备领域展现出了其独特的物理特性和广泛的应用优势。我司专注研发与生产，铸就行业精品。所生产氧化物靶材 材料如下：

一、氧化物(Al2O3)靶材特性：

1、首先，从纯度方面来看，氧化铝靶材的纯度通常达到99.99%以上，甚至可达99.999%的极高纯度。这种高纯度确保了靶材在溅射过程中能够提供稳定且纯净的溅射源，从而制备出质量**的薄膜。高纯度还减少了杂质对薄膜性能的影响，如电学性能、光学性能及化学稳定性等，使得氧化铝薄膜在多个领域中的应用更加可靠和高效。

2、在密度方面，氧化铝靶材的密度约为3.97~4.0g/cm³（真密度），这为其在溅射过程中提供了良好的稳定性。高密度使得靶材在溅射时能够保持均匀的溅射速率和薄膜厚度，从而提高了薄膜的均匀性和一致性。此外，高密度还赋予了氧化铝薄膜优异的机械性能和耐磨性，使其在需要高硬度、高耐磨性的应用中表现出色。

3、熔点方面，氧化铝的熔点高达2054°C，这一特性使得氧化铝靶材能够在高温环境下保持稳定，不易熔化或变形。这种高温稳定性对于需要高温溅射或沉积工艺的应用场景至关重要，如化学气相沉积（CVD）等高温工艺中。同时，高熔点也确保了氧化铝薄膜在高温环境下的稳定性和耐久性，使得其在航空航天、能源存储等极端环境中的应用更加可靠。

三、行业应用：

氧化铝靶材展现出了广泛的应用优势。在半导体领域，氧化铝薄膜作为介电层、钝化层或绝缘层，能够显著提高器件的性能和可靠性。其优异的绝缘性能和稳定的化学性质，使得氧化铝薄膜成为制造高性能电容器、晶体管等微电子器件的理想材料。此外，在光学领域，氧化铝薄膜被广泛应用于抗反射涂层、高反射涂层和透明导电膜等光学元件的制备中，提高了产品的光学性能和美观度。在装饰保护领域，氧化铝薄膜因其良好的耐磨性和化学稳定性，被用作家具、建筑材料等表面的装饰和保护涂层，延长了产品的使用寿命。

综上所述，Aluminum Oxide（Al₂O₃）氧化铝靶材以其高纯度、高密度和高熔点等优异特性，在半导体、光学、装饰保护等多个领域中展现出了广泛的应用优势和巨大的市场潜力。随着技术的不断进步和应用领域的不断拓展，氧化铝靶材必将在更多领域中发挥重要作用。

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铝溅射靶材（Al）Aluminium 

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铝（Al）的基本属性

铝是世界上最常见的金属之一。它可以在厨房用具，汽车，路灯和流行的铝箔食品包装中找到。铝是银白色的金属材料。在正常情况下，它是轻质的，可延展的，可延展的且无磁性的。它的密度为2.7 g / cc，熔点为660°C，蒸气压为10 -4在1,010°C时托。尽管它不是一种坚固的材料，但它还是热和电的良导体，并且能够形成耐腐蚀的氧化层。由于其高反应性，它在自然界中很少作为游离元素被发现。在真空中蒸发时，铝层会在望远镜，汽车前照灯，镜子，包装和玩具上形成反射涂层。它广泛用于航空航天，汽车照明，OLED和光学行业。

铝（Al）规格

铝（Al）及其他合金形式

铝合金按化学成分可分为铝硅合金AlSi，铝铜合金AlCu，铝镁合金AlMg，铝锌合金AlZn和铝稀土合金，其中铝硅合金又有简单铝硅合金（不能热处理强化，力学性能较低，铸造性能好），特殊铝硅合金（可热处理强化，力学性能较高，铸造性能良好）。

其他溅射靶材及蒸发颗粒有铝铜合金，硅铝合金，铝硅铜合金，钛铝合金等。