双炉膛滑轨式PECVD-NBD-PECVD1200-50T2-N诺巴迪厂家直销_产品

产品属性

是否现货

是

用途

双炉膛滑轨式PECVD可用于生长纳米线或用CVD方法来制作各种薄膜。

型号

NBD-PECVD1200-50T2-N

所有参数

设备简介：

双温区的PECVD管式炉系统，组成部分为500W的射频发生器、可定位的独立滑动式烧结炉、高精度质量流量混合系统、稳定防反油真空系统。此款PECVD可用于生长纳米线或用CVD方法来制作各种薄膜。

主要特点：

1. 清洗镀膜一气呵成，杜绝二次污染；

2. 上开启式结构，方便观察试样；

3. 产品采用全自动控制方式，触摸屏，数字化显示；

4. 可通过炉体滑动来达到快速升温和快速降温的效果；

5. 稳定的射频电源，均匀的温度分布，提高成膜质量。

服务支持：一年有限保修，提供终身支持。

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