日本岛津氮化硅基板真空加压烧结炉PHSgr60/60/140适用于Si₃N₄氮化硅材料从脱气到加压烧结的连续处理。新能源汽车、高铁、城市轨道交通、5G 基站等设备上大功率控制模块的散热基板 及汽车、风电等设备上高精度、高转速陶瓷轴承球的烧结处理。
用途:Si₃N₄氮化硅基板、Si₃N₄氮化硅轴承球、 Si₃N₄氮化硅结构件
日本岛津氮化硅基板真空加压烧结炉PHSgr60/60/140技术规格
有效尺寸(mm):600*600*1400
处理量(KG):720
最高温度(℃):2200
真空度(Pa):7x10-1
最高压力:0.9MPaG
加热电力:N2,Ar
岛津作为日本真空炉专业生产代表厂家,在硬质合金,合金陶瓷,金属注射成形的生产和研究开发市场占有大部分的市场份额。经过数十年培育出的技术和成熟的生产工艺,系列化生产的真空炉,可以为用户提供高质量的产品和服务。在中国,韩国等海外市场,也已拥有众多的销售业绩,并得到客户的青睐。
由于1MPa的低压烧结,可以在一定程度上提高产品的抗弯强度和明显减少偏差,因此部分替代6MPa的低压炉使用,从而降低生产成本。
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