磁控溅射镀膜仪 蒸镀设备cvd 磁控溅射靶材
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用途
实验室科研探究
型号
KT-1650PVD
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适用范围
实验室科研探究
品牌
郑科探
所有参数

       磁控溅射镀膜仪  蒸镀设备cvd  磁控溅射靶材 KT-1650PVD是一款小型台式溅射功率可控磁控溅射仪,仪器虽小功能齐全,配备有电压 电流反馈,样品台旋转,样品高度调节,及电动挡板功能。通过定时调节预溅射功率及薄膜沉积功率,可对大部分金属进行均匀物理沉积,真空腔室为透明石英玻璃减少样品污染,样品台可旋转以获得更均匀的薄膜,可制备各种金属薄膜。





控制方式

7寸人机界面 手动 自动模式切换控制

溅射电源

直流溅射电源

镀膜功能

0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序

功率

≤1000W

输出电压电流

电压≤1000V  电流≤1A

真空

机械泵 ≤5Pa(5分钟)   分子泵≤5*10^-3Pa

溅射真空

≤30Pa

挡板类型

电控

真空腔室

石英+不锈钢腔体φ160mm x 170mm

样品台

可旋转φ62  (可安装φ50基底)

样品台转速

8转/分钟

样品溅射源调节距离

40-105mm

真空测量

皮拉尼真空计(已安装 测量范围10E5Pa  1E-1Pa)

预留真空接口

KF25抽气口    KF16放气口   6mm卡套进气口


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郑州科探仪器设备有限公司
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2015成立时间
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电话0371-60308298

手机15286826848

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地址河南省郑州市中原区电厂路国家大学科技园创新园6号楼K座3层

工商信息
统一社会信用代码91410102358043099C
成立日期2015年09月01日
组织机构代码358043099
经营状态存续
法定代表人邱迎迎
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更新时间:2021-06-30
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