金属铟靶材In靶材钼靶材Mo靶材碳化硅靶材SiC靶材碳化钒靶材VC靶材硅化镍靶材NiSi磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料
铟产品介绍
铟(In)是银白色并略带淡蓝色的金属 ,质地非常软,能用指甲刻痕,可塑性强,有延展性,可压成片,易熔金属;液态铟能浸润玻璃,并且会粘附在接触过的表面上留下黑色的痕迹。铟有微弱的放射性,天然铟有两种主要同位素,其一为In-113为稳定核素,In-115为β- 衰变。从常温到熔点之间,铟与空气中的氧作用缓慢,表面形成极薄的氧化膜(In2O3),温度更高时,与活泼非金属作用。大块金属铟不与沸水和碱溶液反应,但粉末状的铟可与水缓慢的作用,生成氢氧化铟。铟与冷的稀酸作用缓慢,易溶于浓热的无机酸和乙酸、草酸。铟能与许多金属形成合金。金属铟主要用于制造低熔合金、轴承合金、半导体、电光源等的原料。
钼产品介绍
钼(Mo)为银白色金属,硬而坚韧,与钨一样是一种难熔稀有金属;钼在常温下不与HF、HCI、稀HNO3、稀H2SO4及碱溶液反应;钼只溶于浓HNO3、王水或热而浓的H2SO4、煮沸的HCI中。钼是一种过渡元素,极易改变其氧化状态,在体内的氧化还原反应中起着传递电子的作用;钼的化学性质比较稳定,常温或在不太高的温度下,钼在空气或水里是稳定的;在空气中加热,颜色开始由白(色)转暗灰色;温升至520℃,钼开始被缓慢氧化,生成黄色三氧化钼(MoO3,温度降至常温后变为白色);温升至600℃以上,钼迅速被氧化成MoO3。钼在水蒸气中加热至700~800℃便开始生成MoO2,将它进一步加热,二氧化钼被继续氧化成三氧化钼。 纯钼丝用于高温电炉和电火花加工还有线切割加工;钼片用来制造无线电器材和X射线器材;钼耐高温烧蚀,主要用于火炮内膛、火箭喷口、电灯泡钨丝支架的制造。合金钢中加钼可以提高弹性极限、抗腐蚀性能以及保持**磁性等。
陶瓷靶材采用常压烧结,气氛烧结,热等静压烧结等工艺,严格控制原料的纯度,成分及成型坯料额设计尺寸,坯料经过精密机械加工成靶材,可根据客户要求定制加工特殊掺杂比例靶材。
产品优势 靶材纯度高,致密度高,成分均匀 厂家直销
产品规格 图片靶材,矩形靶材,圆柱靶材,台阶片靶材,管型靶材,根据客户的图纸定制
产品用途 磁控溅射镀膜材料等
产品附件 正式报价单/购销合同/装箱单/材质分析检测单
适用仪器 各类型号磁控溅射设备
服务项目 靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款,质量保证,售后无忧
加工流程 熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库
厂家优势
厂家直销
收货后7日内可协商退换货
靶材种类齐全
支持合金靶材定制,请提供靶材产品的元素、比例(重量比或原子比)、规格,我们会尽快为您报价!!
本网站价格只做参考,期待您的垂询!
服务项目:靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款,质量保证,售后无忧!
产品附件:发货时产品附带装箱单/质检单/
适用仪器:多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备
质量控制:严格控制生产工艺,采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段,分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度;可提供质检报告。
加工流程:熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库
免责声明:当前页为 金属铟靶材In靶材钼靶材Mo靶材碳化硅靶材SiC靶材碳化钒靶材VC靶材硅化镍靶材NiSi磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料产品信息展示页,该页所展示的 金属铟靶材In靶材钼靶材Mo靶材碳化硅靶材SiC靶材碳化钒靶材VC靶材硅化镍靶材NiSi磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料产品信息及价格等相关信息均有企业自行发布与提供, 金属铟靶材In靶材钼靶材Mo靶材碳化硅靶材SiC靶材碳化钒靶材VC靶材硅化镍靶材NiSi磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料产品真实性、准确性、合法性由店铺所有企业完全负责。世界工厂网对此不承担任何保证责任,亦不涉及用户间因交易而产生的法律关系及法律纠纷,纠纷由会员自行协商解决。
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