广东EDI设备/广州EDI设备/佛山EDI设备哪家质量好——找多清环保
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产品属性
加工定制
是|否
型号
DQ
操作压力
2~4MPA
水电阻率
15~18MΩ.cm
出水量
200L/H ~200T/H
所有参数
 1 EDI设备

1.1 EDI设备简介

EDI设备制水系统属于电去离子(EDI)精除盐深度水处理系统,EDI超纯水制水设备是用来制取纯水、高纯水、超纯水的成套设备。系统进水要求为二级RO产水,产水水质稳定达到5MΩ•cm~18 MΩ•cm,必须有软化水才可以用EDI设备。EDI设备一般情况下,自动运行,实现无人值守。

EDI设备产水规格根据可根据客户需求进行定制,EDI设备规格为0.2T/H~200T/H不等,产水水质5MΩ•cm~18 MΩ•cm

                                             

1.2 EDI设备深度处理工艺流程图

二级RO纯水箱→EDI供水泵止回阀→0.2μm滤菌器进水监测电导仪三通阀可调式纯水/浓水/极水流量计→EDI膜堆产水监测电阻仪EDI超纯水箱

进水监测电导仪→EDI直流稳压稳流电源→EDI电控设备

具体工艺流程图:


              

1.3 EDI设备性能优势

1、可完全替代混床

1、再生不需使用化学药剂,生产过程无任何污染,属清洁生产,节约成本。

2、再生不需要停机,能连续生产质量稳定的高纯水。

3、耗电少,能耗低,水利用率高。

4、设备全自动运行,不需专人看护,运行安全可靠,维护简单,运行费用低。

5、设备占地面积小,节省空间。

6、产水水质可满足5 MΩ.cm ~18.2MΩ.cm高纯水水质需求。

1.4 EDI设备应用领域

EDI设备广泛应于电子、电力、电镀、光电、化工、制药、生物、石油、钢铁、玻璃、实验室等行业领域。

一、电子制造行业(光电行业):如生产半导体材料、生产集成电路、生产电路板、生产晶体管、生产显像管、生产电视显示屏、生产手机屏、生产荧光粉等(生产如显像管玻壳、显像管、液晶显示器、线路板、计算机硬盘、集成电路、芯片、单晶硅半导体等工艺所需的纯水、高纯水)

1、半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路

2、点解电容器生产铝箔及工作件的清洗用纯水

3、电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液用纯水

4、显像管和阴极射线管生产、配料用纯水

5、黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水

6、液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液

7、晶体管生产中主要用于清洗硅片,另有少量用于药液配制

8、集成电路生产中高纯水清洗硅片

9LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏高纯水清洗

10、高品质显像管、荧光粉生产

11、半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗

12、光电产品、其他高科技精微产品、光伏生产

13、半导体芯片清洗超纯水系统制备

14、光电、光学企业用超纯水设备

15、手机屏幕抛光清洗

二、制药行业  医疗器械行业 制取医药工业所需的医用大输液、注射剂、药剂、生化制品纯水、医用无菌水等。

三、医院 供应室、检验科、血透室用水、牙科室等超纯水用水。

四、高校、科研机构、监测单位、检验检疫等单位实验室超纯水用水。

五、精细化工行业:如生产化妆品行业、生产湿纸巾行业、生产洗衣液行业。

六、汽车、家电表面抛光:如汽车、家用电器、建材产品、表面涂装、清洗沌水。

七、墨水生产行业。

八、彩膜玻璃、镀膜玻璃行业 清洗要用超纯水。

九、制取电镀工艺用去离子水;电池(蓄电池)生产工艺的纯水。

十、纺织印染工艺所需的除硬除盐水。

十一、制取热力、火力发电锅炉,厂矿企业中、低压锅炉给水所需除盐纯水。

 

1.5设备样图



EDI设备

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经营状态在业
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更新时间:2024-09-18
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产品属性
加工定制
是|否
型号
DQ
操作压力
2~4MPA
水电阻率
15~18MΩ.cm
出水量
200L/H ~200T/H
外形尺寸
12*17*42cm
电压
220v
水质
15~18MΩ.cm
功率
30W-1000W
电导率
0.055~0.067μs/cm
脱盐率
99.5%
单机出力
200L/H ~200T/H
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