全谱直读光谱仪9800L
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产品属性
加工定制
型号
9800L
光源
HEPS数字化固态光源
波长范围
160-800nm
焦距
见参数
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全谱直读光谱仪9800L

应用领域

全谱直读光谱仪9800L是我公司引进欧洲技术生产,是目前**的国际认为的CCD光谱仪技术, 广泛应用于冶金、铸造、机械、汽车制造、航空航天、兵器、金属加工等领域的生产工艺控制,炉前化验,中心实验室成品检验。落地式全谱直读光谱仪9800L体积小、稳定性好、检测限低、分析速度快、运行成本低、操作维护方便,是控制产品质量的理想选择。

产品优势

1、**的CCD全谱光谱仪制造技术(数字化技术替代老式体积**笨重的光电倍增电子管模拟技术)、通道不受限制 ;

2、引进欧洲技术、同国际光谱仪技术同步,国内一家也能生产真空CCD全谱技术光谱仪的制造商;

3、基体范围内通道改变、增加不需费用;

4、升级多基体方便,无须变动增加硬件;

5、优良的数据稳定性,同一样品不同的时间段分析,可获得良好的数据一致性;

6、体积小、重量轻, 移动安装方便;

7、高集成度、高可靠性、高稳定性;

8、节电、节材、能耗只是普通光谱仪50%。

主要特点

1、可测定包括痕量碳(C),磷(P),硫(S)元素,适用于多种金属基体,如:铁基,铝基,铜基,镍基,铬基,钛基,镁基,锌基,锡基和铅基。全谱技术覆盖了全元素分析范围,可根据客户需要选择通道元素;

2、分析速度快捷,20秒内测完所有通道的元素成分。针对不同的分析材料,通过设置预燃时间及标线,使仪器用较短的时间达到较优的分析效果;

3、光学系统采用真空恒温光室, 激发时产生的弧焰由透镜直接导入真空光室,实现光路直通,消除了光路损耗,提高检出限,测定结果准确,重现性及长期稳定性较佳;

4、特殊的光室结构设计,使真空室容积更小,抽真空速度不到普通光谱仪的一半;

5、自动光路校准,光学系统自动进行谱线扫描,确保接收的正确性,免除繁琐的波峰扫描工作。仪器自动识别特定谱线,与原存储线进行对比,确定漂移位置,找出分析线当前的像素位置进行测定;

6、开放式的电及架设计,可以调整的样品夹,便于各种形状和尺寸的样品分析;

7、工作曲线采用国际标样,预做工作曲线,可根据需要延伸及扩展范围,每条曲线由多达几十块标样激发生成,自动扣除千扰;

8、HEPS数字化固态光源,适应各种不同材料 ;

9、固态吸附阱,防止油气对光室的污染,提高长期运行稳定性;

10、铜火花台底座,提高散热性及坚固性能;

11、合理的氩气气路设计,使样品激发时氩气冲洗时间缩短,为用户节省氩气,氩气消耗不到普通光谱仪的一半;

12、采用钨材料电及,电及使用寿命更长,并设计了电及自吹扫功能,清洁电及更加容易;

13、高性能DSP及ARM处理器,具有高高速数据及控制功能并自动实时监测光室温度、真空度、氩气压力、光源、激发室等模块 的运行状况;

14、仪器与计算机之间采用以太网连接,抗千扰性能好,外部计算机升级与仪器配置无关,使仪器具有更好的适用性;

15、核心器件全部进口,保证了仪器优良的品质。

技术参数

1、光学系统

光学结构:帕邢-龙格结构的全谱真空型光学系统

光室温度:自动控制恒温:35℃±0.5℃

波长范围:160-800nm

光栅焦距:350 mm

光栅刻线:3600 l/mm

Ⅰ级光谱线色散率:1.2 nm/mm

探测器:多块高性能线阵CCD

平均分辨率:10pm/pixel

2、激发台

气体:冲氩式

氩气流量:激发时3-5L/min, 待机时:无须待机流量

电及:钨材喷射电及技术

吹扫:点击自吹扫功能

补偿:热变形自补偿设计

分析间隙:样品台分析间隙:4mm

3、激发光源

类型:HEPS数字化固态光源

频率:100-1000Hz

放电电流:1-80A

特殊技术:放电参数优化设计

预燃:高能预燃技术

4、数据系统

处理器:高性能ARM处理器,高速数据同步  处理

接口:基于DM9000A的以太数据传输

5、电源与环境要求

输入:220VAC 50Hz

功率:分析时(max)700W,待机状态40W

工作温度:10-30℃(该温度范围内温度变化不大于5℃/h)

工作湿度:20-80%

6、尺寸与重量

尺寸:800*450*500 mm

 

重量:120Kg

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成立日期2003年09月05日
组织机构代码751284569
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更新时间:2024-10-28
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9800L
光源
HEPS数字化固态光源
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160-800nm
焦距
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外形尺寸
800*450*500 mm
重量
120Kg
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