DPD-230:氢氧化四甲铵(化学名),主要用于LED、IC、LCD制造用光刻胶的显影剂,适用于东进及其他公司的I-line 及G-line 光刻胶。可防止和减少钠离子的污染,改善应用性能,其湿润性良好,且表面张力大,晶片表面内尺寸变化小,显影液温度对于曝光量的依赖性低,显影液气泡少,显影干净、亲和力性能好等优点,有利于提高分辩力。
Soloper D:為配方溶劑,適用於半導體中所有的負光阻顯影製程。不含二甲苯及苯類成份,具較低的溶解性,較不會造成光阻的膨脹,而有較佳的影像解析度
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