E5000发射光谱仪拥有创新的高功率数控电弧光源、全自动激光对准的光源装置、稳定可靠的帕型-龙格全谱分光系统以及阵列CCD全谱测量技术，同时结合时序分析、光谱自动校正等**技术，采用固体样品直接进样的方法，全面解决了传统技术分析繁琐、效率低下、准确性差等问题，是光谱元素分析领域的重大突破。

电弧发射光谱技术与全谱直读光谱技术结合，新一代固体粉末分析技术

1.Paschen-Runge（帕型-龙格）全谱光学系统，能测定需要分析的所有常规元素

2.紧凑的小型台式设计，确保稳定可靠、易用便捷

3.防溢出CCD高速数采系统，信噪比高、动态范围大

4.高功率数控可编程光源，电流、电压、频率可控，提供更优的分析方法

5.多重连锁和监控，确保操作安全可靠

6.全自动电极激光对准系统

7.粉末样品直接进样，方便迅速

8.一键激发，立刻获得分析结果

9.内置工作曲线，客户无需手动建线，切实提高工作效率

10.软件开放所有**功能，为客户提供完美的方法开发平台

E5000发射光谱仪全谱测量技术

全谱平台拥有丰富的谱线信息，更易于元素扩展与方法开发

基于全谱测量的数据，能够正确区分背景和谱线，有效提高测量精度

- 方便查看谱线及干扰情况

- 支持斜背景、左右背景等不同的扣除方式

强大的自动谱线去干扰算法

- 通过算法扣除干扰谱线获得干净的待分析谱线

- 基于全谱测量数据的多峰拟合技术可将谱线完全分开，有效消除谱线的干扰

根据元素的含量范围选择不同的分析谱线，大含量范围的测量更准确

- 多谱线结合，扩展分析范围的同时，有效保证分析精度

- 避免灵敏线饱和，不需要消释样品，取得更大的分析范围

CCD高速数采系统

1.防溢出线阵CCD

2.采用动态积分，有效扩展CCD的动态范围

                                       蓝线-CCD谱线  红线-PMT谱线

Paschen-Runge（帕型-龙格）全谱光学系统

1.  恒温型全固定光学系统

2.全反射式光路

3.光室结构紧凑

4.一体式固定

 5.光学器件少，性能稳定

 6. 基于CCD的全谱***和分析  

全新一代电弧数控光源

数控光源体积小、效率高

基于数控可编程技术，光源的电流、电压、频率可调节

分析不同含量的元素，选择的激发参数，降低元素分析的检出线，改善元素分析的准确度

可设置及读取不同检测阶段的数据

一键激发及全自动对准电极

1.样品装载激发一气呵成，方便快捷

2.多元素同时分析，直接得到最终结果

3.设计精良的电极挟持旋钮

4.红外激光对准、**的电极激光自动对准技术

5.水冷电极夹提高检测稳定性

多重连锁和安全保护

1.可靠的水冷系统，分别对电弧光源和激发电极散热

2.时监控仪器的运行状态，所有的连锁状态如冷却水、排风、炬室门等都通过界面和指示灯等多种形式直接提醒

3.界面上有关键温度的显示，**时间查看仪器的运行情况

4.排风监控，消除废气影响

5.特殊的风道设计提高稳定性

强大的分析软件

便捷易用的分析软件

-操作直观、便捷、层次化的软件界面，非专业人员也能方便操作

- 简单的方法开发过程，各种检测条件都可调节

强大的多元素分析平台

- 便捷的全谱查看

- 多元素分析及多谱线选择

- 一键激发，直接在软件上得到分析结果

- 丰富的方法库有利于方法的传承、学习和维护

可分析元素及多谱线选择

全面智能的软件算法

- 内置工作曲线，完善的时序分析，能够实现定性、定量分析

- 丰富的处理技术，支持内标法、基底扣除、干扰元素校正等分析方法

- 功能强大的**处理功能，为客户带来更全面、更**的分析体验

                          E5000发射光谱仪内置工作曲线及基底扣除

  **的智能漂移校正技术

利用全谱丰富的谱线信息，自动完成仪器校正，使得分析数据更稳定

E5000发射光谱仪技术参数