型号：Apollo型和Gemini型等离子去胶机
该两种型号的去胶机是一种低损伤的去胶系统，美国Trion公司通过这两套价格低廉、紧凑型的多功能系统极大降低了等离子去胶机的成本，使得更适合于实验室和中小批量生产的需要。
Gemini和Apollo型等离子去胶机黎勇ICP（电感应耦合等离子体）、微波和射频偏置功率，可以再低温条件下将难于消除的光刻胶去除。根据应用要求，每套系统可以结合SST-Lightning微波源（即可靠又没有任何长江的微波调谐问题）或ICP技术。
特点：
1）刻蚀速率高达6微米/分
2）产能高
3）等离子损伤低
4）自动匹配网络
5）适用于100mm到300mm基片
6）设备占地尺寸小
7）价格具有好的竞争力
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