产品特点：
1、沉积速率快
2、成膜时间短
3、整体设备均采用不锈钢材料
4、真空室及机器台板采用不锈钢抛光工艺
适用范围：
镀制晶片正面电极。
我公司可根据客户镀膜需要进行具体设计
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设备型号 |
DLD-610 |
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真空室尺寸 |
Φ610x765 |
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制膜种类 |
制晶片正面电极（镍或镍合金) |
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电源类型 |
多弧电源 |
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多弧靶 |
6个 |
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真空室结构 |
立式前开门结构（水槽式冷却）、后置抽气系统 |
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真空系统 |
旋片泵＋罗茨泵＋扩散泵 |
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充气系统 |
质量流量控制仪（1路） |
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极限真空 |
2×10－3pa（清洁空载） |
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抽气时间 |
空载大气抽至7×10－3pa≤20分钟（清洁空载） |
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工件旋转方式 |
腔体中间立式滚筒＋东方马达步进电机 |
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控制方式 |
手动＋半自动/触摸屏＋PLC |
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备注 |
产量：7亿左右 |
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