产品特点：
1、沉积速率快，膜层致密
2、成膜时间短
3、可镀制低阻值、超低阻值段的晶片电阻
4、整体设备均采用不锈钢材料
5、真空室及机器台板采用不锈钢抛光工艺
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设备型号 |
JDD-700 |
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真空室尺寸 |
Φ700x888 |
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制膜种类 |
低阻值晶片薄膜 |
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电源类型 |
直流磁控溅射电源 |
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平面矩形靶 |
GGC－720型磁控源5个 |
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真空室结构 |
立式前开门结构、后置抽气系统 |
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真空系统 |
旋片泵＋罗茨泵＋扩散泵 |
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充气系统 |
质量流量控制仪（2路） |
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极限真空 |
2×10－3pa（清洁空载） |
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抽气时间 |
空载大气抽至7×10－3pa≤20分钟（清洁空载） |
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工件旋转方式 |
腔体中间立式滚筒＋变频无级可控可调，0-10转/分 |
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控制方式 |
手动＋半自动/触摸屏＋PLC |
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备注 |
产量每月3—7亿，产量与阻值有关 |
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