VCVD 系列真空感应气相沉积炉适用于化学气相沉积法制备碳-碳复合材料，如飞机刹车片等。也可做为硬质合金制品的烧结、碳化以及高温石墨化的设备。是科学院校研究，生产**、航天材料必不可缺的设备。其工作原理是在真空条件或保护气氛下，利用中频感应方法将置于感应线圈内的石墨坩埚加热，石墨坩埚中放入被制备的碳－－碳复合材料，在一定真空度下将坩埚加热到规定温度并通入稀释的碳氢气体。该气体中的含碳活性基因分解后便沉积于材料表面。
主要特点
a.自动化高， 全程可自动化操作，具有炉子工作状态模拟显示屏，实时显示设备运行状态。可配 PLC 可编程控制器及人机界面控制系统。
b. 安全性高，PLC实现安全连锁，具有超温、传感器断偶、水压、炉体超压、水流量、水温过高等声光报警。
c. 可配内置式或外置式快冷系统。提高工作效率
d.应用先进的温度、真空检测等仪表及传感元件保证设备的可靠性。
e. 采用质量流量控制器准确地控制各种流量，利用压力调节阀对炉内气氛压力进行动态控制，在监控条件下进行化学气相沉积处理。
f. 配特制粉尘过滤器能有效的保护真空泵，延长真空泵的使用寿命。
设备规格可根据客户样件独立设计制作。
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