VCF系列真空碳化炉,是指工件加热在真空室内进行,主要用于要求质量高的产品和易氧化材料的无氧处理,该设备主要用于碳-碳、单晶硅、多晶硅半导体等材料。基本原理是在真空室内设有电阻加热器用于产品加热,产品置于内炉胆内,先将室内抽成真空状态,布置的充气管路随工艺设定的工艺,随程序充入适量氮气执行碳化过程。设备的基本特点:设备具备全自动控制、监控、跟踪等功能,其配套的元件能够适应长期、稳定、安全、可靠的生产需求。设备的使用、操作、维修保养便捷。
设备规格:
规格(宽X高X长)mm | 承载量kg |
400x400X600 | 300 |
500x500X700 | 500 |
600x600X900 | 700 |
700x700X1000 | 900 |
800x800X1200 | 1000 |
900x900X1500 | 1200 |
1000x1000X1800 | 1500 |
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