TSU600多功能镀膜机为双层水冷腔室(φ600×H600),配两只永磁靶及三只多弧靶,另可选配蒸发电极/电磁靶/霍尔离子源/膜厚仪等,采用“分子泵+机械泵”高真空系统。 该设备具有磁控溅射/多弧离子镀/电阻蒸发(选购)三重功能,能实现一机多用,可用来制备导电膜、半导体膜、绝缘膜、多层膜等。 主要技术参数 1、极限真空: 8×10-5Pa; 2、恢复真空抽气时间:从大气抽至7×10-3Pa≤15min; 3、工作真空: ≤7×10-3Pa; 4、升压率:≤0.8Pa/h; 5、基片(样品)加热温度:室温至300℃可调可控; 6、基片旋转速度:2-20RPM,可调; 7、膜厚不均匀性:≤±5%(40mm之内)。
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