二氧化硅, SiO2;用途：光学镀膜材料
分子式 | 形状 | 尺寸 | 颜色 | 纯度 |
SiO2 | 颗粒 | 1~3mm | 无色 | 99.99% |
2~4mm | ||||
圆柱颗粒 | Φ2x2mm | |||
Φ3x3mm | ||||
圆珠 | Φ2.5mm直径 | |||
圆片 | Φ25x10mm | |||
Φ30x12mm |
二氧化硅光学镀膜材料也是用于光学镜头等光学元件生产的必备材料，在要求膜层更加牢固的情况下使用。由于它更有应力小，成膜容易等特点而被广泛使用在滤光片的生产中。尤其近年来随着光通讯领域的飞速发展，要求使用几百层薄膜的滤光片（密集波分复用器件），这时没有任何其它材料可以取代二氧化硅镀制。另外还因为它是非常好的电绝缘材料而在大规模和超大规模集成电路中大量使用。由于它具有较高的硬度，在表面保护上也广泛应用。
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