金刚石化学气相沉积系统（MPCVD）

美国CTS公司提供的CTS-6U型6kW微波等离子金刚石CVD系统具有高度可重复的真空完整性设计特点，能够在接近大气压范围内运行，用于高沉积速率的单晶工艺。它还可以合成高纯度的高均匀性和大面积的单晶和多晶。腔室、观察窗和沉积台的设计与先进的计算机过程控制相结合，具有无人值守的安全互锁功能，可以获得高可靠性、长时间稳定性。CTS-6U是**一代CVD金刚石反应器，专为满足高产量、高质量、高性价比的生产和先进的研发要求而设计。

真空系统和反应器腔体                                   

典型工作压力范围：6-600Torr 

真空泵（用户提供或选配）：双极旋片泵，泵速优于17SCFM(50/60Hz)

**气流量：1slm

本底真空：20mTorr(取决于真空泵)

工艺压力控制：节流阀反馈控制回路

基底温度控制：微波功率反馈或基片台位置控制回路

初级真空泵（用户提供或选配）：油泵或干泵

反应器腔体材料：铝合金、铜、不锈钢

真空密封：铜、钢垫圈（CF和VCR），分级泵双氟橡胶O形圈和垫圈

压力上升漏率：<0.1Torr in 24 hrs

观察和测量端口：5 (2.75” CF窗口法兰)：1 个垂直的高温计端口，4个基片水平端口，2 个 1.33” 倾斜的CF窗口法兰，集成氦气检漏端口，内置用于连接氦检漏探测器的快速连接的可切换的KF40接口

样品台直径：8.63”带水冷

基片台进入口：打开腔室盖，装载和卸载样品和腔体维护    

升降机构：气垫锁定的手动升降装置

控制/软件

系统通过计算机控制软件进行操作，带有操作员GUI和控制菜单，可进行工艺开发、监控、数据记录和报警程序更新等。控制系统具有健全的工业级结构，保证高的可靠性和灵活性。

操作系统：微软系统视窗

工作模式：手动和半自动模式

特点：应用程序文件，GUI屏幕显示系统状态、工艺运行、数据记录、微波功率曲线、温度曲线等；计算机控制菜单驱动操作，带有安全互锁和故障排除功能；网络移动访问能力；未来升级扩展能力。

微波发生器

频率：2.45GHZ

微波功率：6KW(更高功率10KW可选，适应面积更大、增长率更高的工艺)

高压电源类型：高频、低纹波开关电源

波导装置：手动三级调谐、循环、虚拟加载反射功率

设备特点

双极密封和连体法兰，显著减少氮气污染

6-600Torr压力范围，稳定，高生长速率，单晶工艺

灵活的夹具可提升籽晶基片工艺的产能

更高的功率选项(10kW)适用于面积更大/增长率更高的工艺

先进的过程控制和监控，包括互联网接入系统的控制功能

一体化人机工程学设计，操作方便，使用方便

直径100mm(4英寸)的晶圆加热器提供+-10%均匀度的微晶金刚石薄膜