产品特点:
1、沉积速率快
2、成膜时间短
3、整体设备均采用不锈钢材料
4、真空室及机器台板采用不锈钢抛光工艺
适用范围:
镀制晶片正面电极。
我公司可根据客户镀膜需要进行具体设计
设备型号 |
DLD-610 |
真空室尺寸 |
Φ610x765 |
制膜种类 |
制晶片正面电极(镍或镍合金) |
电源类型 |
多弧电源 |
多弧靶 |
6个 |
真空室结构 |
立式前开门结构(水槽式冷却)、后置抽气系统 |
真空系统 |
旋片泵+罗茨泵+扩散泵 |
充气系统 |
质量流量控制仪(1路) |
极限真空 |
2×10-3pa(清洁空载) |
抽气时间 |
空载大气抽至7×10-3pa≤20分钟(清洁空载) |
工件旋转方式 |
腔体中间立式滚筒+东方马达步进电机 |
控制方式 |
手动+半自动/触摸屏+PLC |
备注 |
产量:7亿左右 |
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