产品特点:
1、沉积速率快,膜层致密
2、成膜时间短
3、可镀制中低阻值段的晶片电阻
4、整体设备均采用不锈钢材料
5、真空室及机器台板采用不锈钢抛光工艺
设备型号 |
BJD-720 |
真空室尺寸 |
Φ720x950 |
制膜种类 |
晶片低阻、中阻、高阻镀膜机 |
电源类型 |
直流磁控溅射电源 |
平面矩形靶 |
GGC-720型磁控源3个 |
真空室结构 |
立式前开门结构、后置抽气系统 |
真空系统 |
旋片泵+罗茨泵+扩散泵 |
充气系统 |
质量流量控制仪(2路) |
极限真空 |
2×10-3pa(清洁空载) |
抽气时间 |
空载大气抽至7×10-3pa≤20分钟(清洁空载) |
工件旋转方式 |
腔体中间立式滚筒+变频无级可控可调,0-10转/分 |
控制方式 |
手动+半自动/触摸屏+PLC |
备注 |
产量:每月3—7亿 |
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