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EMC

测量范围

50.00-100.00%

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是

测量精度

0.1%

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蔗糖结晶与过饱和度之间的关系

将蔗糖的饱和溶液冷却或者蒸发而没有结晶析出，这时溶液中所溶解的蔗糖量多于同温度时的溶解度，称为过饱和溶液。过饱和溶液在平衡状态下，可保持长时间不析出结晶但并不稳定，如果投入少量蔗糖晶体，或加以搅拌、振动等，过剩糖分会析出成为蔗糖结晶和使已有的蔗糖晶体长大。糖液的过饱和程度用过饱和系数表示：
在不同的过饱和程度下糖液有不同的特性：

=1.0：糖液刚呈饱和状态，不会溶解所存在的晶体，也不会另生成新晶体。
1.0-1.2：此阶段比较稳定，糖液未能生成晶核，若有晶核存在可继续长大。
1.2-1.3：此范围的糖液具不稳定性，没有外界条件的影响，则不易立即生成晶核；但一经刺激就有可能出现晶核，在有足够晶核存在的糖膏中，应控制在此阶段进行养育晶体长大。
1.3-1.4：此范围可突然生成大量的晶体如控制在此范围则可大量生成新晶体。
可见，糖液过饱和度的大小对煮糖结晶过程的影响是至关重要的。测定和控制结晶罐里糖膏的过饱和系数对实现煮糖结晶工段的自动化控制具有很大的现实意义。煮糖操作是根据实际需要，利用糖液在不同过饱和度下不同的特性，在煮糖罐里将糖液控制在适当的过饱和度，使糖液首先生成晶核，随之养育成称为种子或晶种的粒子较大的晶体，再让它们在适当的过饱和度下吸收糖液的糖分而长大，这个过程称为养晶。通过养晶，糖液中溶解的蔗糖便变为较纯净的蔗糖结晶体，糖液中含的糖分减少。当煮糖完毕，又置于助晶箱一段时间进行冷却降温，进一步提高糖液的过饱和度，使晶体继续吸收糖液的糖分，**用分蜜机将糖液分离，得到均匀整齐的晶体。实际中常利用过饱和度的三个**代表性的区域来实现控制:
1、育晶区(稳定阶段)：过饱和度1.0-1.2。
2、刺激生晶区(中间阶段)：过饱和度1.2-1.3。

3、自然生晶区(不稳定区)：过饱和度1.3以上。

MPR E-Scan折光锤度计原理是在一定的锤度范围内糖液的锤度和其折射率呈线性关系,通过测定糖液的折射率可以确定糖液的锤度。对糖液锤度的研究结果表明,当糖液在80.00-82.00Brix时，开始投放晶种。要控制好在煮中的糖膏保持最适合的过饱和度，务使糖膏自始至终保持在安全养晶区内进行煮炼。为此，要充分利用现有的煮糖仪器，提供煮炼过程的参数。努力使到从起晶到卸糖都能控制在1.1～1.3的过饱和度范围内进行。在过饱和度1.15～1.20养晶范围内变化时,过饱和度和折射率均有很好的线性相关性,相关系数达到0. 9998,完全能够达到工艺过程分析监控的要求。

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