产品概述

4Wave成立于2000年，主要人员及技术均源于美国**的离子束技术公司Commonwealth Scientific。Commonwealth于2000年被Veeco收购后，其主要的技术及管理高层离开Commonwealth后，重新组建了4Wave公司。4Wave全心致力于研究与应用离子束技术，主要产品为基于离子束技术的薄膜沉积及刻蚀系统，客户群覆盖大学、国防军工、先进技术公司等领域。
4Wave**技术
1. 低能高束流离子源
2. 偏压靶离子束沉积
3. 低能量的**离子束刻蚀

 产品特点

离子束刻蚀
1. 真空锁结构可选 
2. 单片或行星式装置
3. 射频ICP离子源 
4. 刻蚀终点监测 - 二次离子质谱仪
5. 基于PC+PLC的自动化控制系统架构

离子束沉积
1. 真空锁结构可选
2. 多靶自动选择
3. 射频ICP离子源
4. 辅助沉积/表面预清洗离子源
5. 晶振和光学膜厚测量
6. 偏压靶技术可选

 产品应用

1.行星式气冷刻蚀系统 

   2.应用于磁阻、巨磁阻的离子束沉积系统

   3.研发型和工业型DLC硬质薄膜沉积系统

   4.AlN介质膜离子束沉积系统

   5.应用于半导体存储器镀层的IBD和IBE系统

   6.合金纳米涂层溅射系统

   7.应用于红外探测器的离子束沉积系统

   8.行星式离子铣