平板型氧化铝研磨微粉产品介绍
一、企业概况：
无锡中晶材料科技有限公司是专业从事 “平板状氧化铝研磨抛光微粉”(TWA 系列产 品 ) 的生产、研发、销售于一体的科技型企业，已通过ISO：9001-2000国际质量标准，具有国际先进水平的生产线和**的员工队伍, 拥有 Coulter Multisizer II型粒度分析仪和其它精密的质控仪器。该产品填补了国内在**磨料上的空白 ,改变了我国长期依赖进口的局面,现已稳定地供应给美国、日本、韩国、马来西亚、台湾地区以及国内众多企业。
二、产品介绍： 该研磨抛光微粉是以工业氧化铝为主要原料 , 采用特殊矿化剂、高温控制晶粒形状及大小 , 经特殊处理和严格的分级而制成。硬度仅次于金刚石 , 是非常优异的精密研磨抛光、研磨微粉。
1、平板型氧化铝研磨抛光微粉的性能 : 平板型氧化铝研磨抛光微粉颗粒呈独特的平板状结构 , 硬度高达莫氏九级 , 磨削力强 , 不易产生划痕 , 可得到高效率、高精度的被加工表面 , 有特殊设计的粒度分布 , 质量和日本 FUJIMI公司相当。
2、平板型氧化铝研磨抛光微粉的特点
1）平板型氧化铝研磨抛光微粉与其它氧化铝研磨抛光微粉的**区别是：片状，硬度高，粒度均匀。
2）特点为：
A、形状为平板状，即片状，使磨擦力增大，提高了磨削速度，提高了工效，因此可减少磨片机的数量、人工和磨削时间，如显像管玻壳磨削工效能提高3-5倍；
B、由于形状为平板状，故对于被磨对象（如半导体硅片等）来说不易划伤，合格品率可提高10%至15%，如半导体硅片，其合格品率一般能达到99%以上；
C、由于硬度比普通氧化铝研磨抛光微粉高，故用量比普通氧化铝研磨抛光微粉要少，如果磨同样数量的产品，其用量比普通氧化铝研磨抛光微粉要节约40%至50%；
D、与国外同类产品相比，质量达到或超过国外同类产品，品质已达到国际标准，但产品价格只有国外同类产品的60%--70%；
E、由于平板型氧化铝研磨抛光微粉的优良性能，故加工的产品合格品率高，质量稳定，生产成本只有原来的50%-60%。（具体数据可见用户报告）
3、平板型氧化铝研磨抛光微粉的用途 :
1）电子行业 : 单晶硅片、压电石英晶体、化合物半导体的研抛。
2）玻璃行业 : 硬质玻璃和显象管玻壳的加工。
3）涂附行业 : 特种涂料和等离子喷涂的填充剂。
4）金属和陶瓷加工业。
氧化铝(AL2O3)性能指标：
   物理指标：
  
化学名称 外观 密度 莫氏硬度 显微硬度
α- AL2O3 白色 3.95-3.98g/cm3 9.0 2200-2300kg/mm

 化学指标：
　　
化学成份 指标(%) 测度结果(%)
AL2O3 ＞99.0 99.36
SiO2 ＜0.2 0.027
Na2O ＜0.6 0.35
Fe2O3 ＜0.1 0.03

产品粒度：
粒度号 平均粒度(µm)
TWA50 44.5±2.5
TWA45 36.0±2.3
TWA40 31±2.0
TWA35 25.5±1.7
TWA30 21.5±1.5
TWA25 17.4±1.3
TWA20 14.2±1.0
TWA15 10.5±0.8
TWA12 8.2±0.6
TWA9 6.4±0.6
TWA5 4.7±0.5
TWA3 3.1±0.4