对准曝光机- MaskAligner
■特点
■手动操作、接触式对准曝光机。
■依照不同需求以及成本考量 有准直仪型/多面镜型/整合(积算器)型三种曝光光源。
■有可对应5×5mm~100×100mm以及Φ1inch~ 6 inch的基板的各类机种。
■Mask Holder载台的更换作业简单易行,可在1分钟内完成,适合用于研究开发。
■对准显微镜的对物镜可对应高对准精度或厚膜等用途,并且有4×、10×、20×三种。
■共通规格
接触方法 | 软性接触/ 硬性接触(部分选配) |
对准精度 | 使用对物镜20×时<1.2μm(M-1S除外) |
对准显微镜 | 双视野显微镜对物镜间隔18~60mm |
曝光波长 | 多频率(h.i.g线) |
MA系列 半自动型,用于IC少量生产,MEMS等用途
MA-20 高解析度,高规格型
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具体需求请向我司咨询。
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