产品属性

加工定制

否

型号

M-2LF

所有参数

对准曝光机- MaskAligner

■特点

■手动操作、接触式对准曝光机。
■依照不同需求以及成本考量有准直仪型/多面镜型/整合(积算器)型三种曝光光源。
■有可对应5×5mm～100×100mm以及Φ1inch～ 6 inch的基板的各类机种。
■Mask Holder载台的更换作业简单易行，可在１分钟内完成，适合用于研究开发。
■对准显微镜的对物镜可对应高对准精度或厚膜等用途，并且有4×、10×、20×三种。

■共通规格

接触方法	软性接触/ 硬性接触(部分选配)
对准精度	使用对物镜20×时＜1.2μm(M-1S除外)
对准显微镜	双视野显微镜对物镜间隔18~60mm (M-1S除外)
曝光波长	多频率(h．i．g线)

MA系列半自动型，用于IC少量生产，MEMS等用途

MA-2LF 高规格型

规格

基板尺寸	MAX 6 inch
Mask尺寸	MAX 7×7 inch
UV灯箱	整合型
照度	>18mW/cm2
照度均一性
硬性接触	选配
对准点间隔测长功能	不可装配
UV灯累计光量计	不可装配
防震台	配件
外形尺寸(mm)	1000W×1685H×800D (包含防震台尺寸)

具体需求请向我司咨询。

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